產(chǎn)品特性

大高寬比，透明度高，垂直性好。

光源：Near UV(350-400nm)，推薦i-lin，也可用于E-beam，X-ray

膠厚：0.5-650μm

應(yīng)用：適用于MEMS工藝，鈍化層，微流控以及光電子器件。