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       利用計(jì)算機(jī)輸入的地址和圖形數(shù)據(jù)，控制聚焦電子束在涂敷有電子束光刻膠的襯底上直寫曝光。其采用的是逐點(diǎn)掃描的方式，讓被掃描區(qū)域內(nèi)的光刻膠進(jìn)行曝光，以實(shí)現(xiàn)光刻的目的。目前世界上最細(xì)線條的光刻圖案就是該技術(shù)完成的，可達(dá)到2nm。